2020年9月24日
大分県ＬＳＩクラスター形成推進会議 会員各位
グローバルイノベーション部会
部会長 野尻 裕明
大学・高専との連携推進補助事業の公募案内
(卒業研究のテーマを募集します)
企業が抱える技術課題を大学・高専の学生の卒業研究のテーマとして公募し、企業関係
者との緊密な連携のもとに、指導教員と共に、共同研究を1年間実施し、課題解決を図り、
企業と大学・高専との継続的な交流を促進することで、両者間の敷居を低くして産学交流
の更なる促進を目的とするものです。研究の進展により、随時ミーティングの開催や、成
果報告会を開催します。困っている問題や、今後、チャレンジしたい技術などについて、
大学や高専の学生や先生と一緒に課題解決に向けて取り組んでみませんか。
１．大分大学
〇対応する学科 ・・・・・・知能情報ステム工学コース
〇募集する技術分野・キーワード・・・ 情報処理技術
コンピュータの論理設計・設計自動化（CAD）,コンピュータのテスト・高信頼化、IoT応用、
画像認識、xR技術の応用、インターネット運用技術、情報セキュリティ、分散処理、
クラウドサービスの活用、音響・音声・音楽などの音メディア処理、マルチチャンネル音響処理、
機械学習・時系列解析、生体情報解析とその応用、画像処理、自律型ドローンと環境操作 他
(参照) http://www.csis.oita-u.ac.jp/labs/
２．大分高専
〇対応する学科 ・・・・・電気電子工学科、機械工学科、情報工学科、都市・環境工学科
〇募集する技術分野・キーワード ・・・
(参照) http://onct.oita-ct.ac.jp/techno/pdf/kenkyusya/kenkyusya.pdf
流体力学、金属疲労、振動切削、生体材料、工作機械、機械制御、可視化、
AI・人工知能・学習、光情報、パワーエレクトロニクス、制御応用、並列分散処理、
セキュリティー、信号処理、無線センサーネットワーク、画像認識・処理、プログラム、
組み込みシステム 他
【申請書の締め切り】１０月２８日（水）
【スケジュール】 別紙参照
大学/高専による企業面談・対象企業の決定・共同研究契約額の確定・共同研究契約書の締結 (～2月)
事業実施は、令和3年4月～令和4年2月となります。
【補助金の申請】
共同研究企業は、申請により書類審査にて、2/3補助 (最大30万円) 補助金を交付します。(予算内)
【参加対象者】ＬＳＩクラスター会員企業
【問い合わせ先／申込先】大分県 LSI クラスター形成推進会議 事務局 担当：／佐藤／足立
TEL/FAX: 097-596-7179 e-mail: oita-lsi@columbus.or.jp
大学高専連携推進補助事業__公募案内 大学高専連携推進補助事業_ｽｸｼﾞｭｰﾙ
大学高専連携推進補助事業_申請申込書
