2016年1月8日
平成28年1月8日
大分県LSIクラスター形成推進会議
県内会員企業の皆様へ
グローバルイノベーション部会長 樋口 嘉
「ダスト・ESA」診断のご案内
平素より大分県LSIクラスター形成推進会議へのご協力ありがとうございます。
ものづくり産業におきましては品質の管理や向上が常にもとめられていますが、半導体関連・精密機器・医療機器の産業においては、中でもダスト、つまりゴミやホコリの管理技術が重要なテーマとなります。それは歩留りやコストへと直結しています。
そのためこの分野の新しい管理技術を学ぶことはとても重要です。そこでH26年度には技術研修として「ダスト・ESA」についての取り組みの講演を２回にわたり実施させていただきました。
半導体後工程の清浄度はクラス１００００と判で押したように言われておりました。しかし、近年その概念が変わってきています。浮遊微粒子対策よりも目視可不可領域の粗大粒子が不良の原因として大きくとらえられるようになりました。粗大粒子が問題となるとパーテイクルカウンカーのデータと相関が取れないという難しさがあります。また、静電気対策も大きくその性格を変えようとしています。
従来はデバイスの静電破壊を防止するためのESD（Electrostatic Discharge）対策に重きが置かれていました。ところが近年はフイルム製品、樹脂材料を多用するようになり、静電気吸着、すなわち、ESA（Electrostatic Attraction）対策の重要性がクローズアップされています。普段は見えない粒子・静電気対策は非常に難しいものです。特に作業員全体の情報の共有はどの企業も頭を痛める問題であります。
本「ダスト・ESA」診断では、その粗大粒子の挙動や対策について、「パーティクルカウンターの管理では分からない、異物不良のリスクを見える化する」診断として各企業へ実際に訪問し、２時間程度現場での診断をさせていただくものです。クリーン度は問いませんがクリーンルームをお持ちで診断を希望される企業の方は、添付「ダスト・ESA」診断申込書に必要事項を記載の上、本メールあて返信または、FAXいただきます様お願い申しあげます。
〔診断の実施依頼先〕
シーズシー㈲ 代表取締役 稲永 健氏
H26年度に「ダスト・ESA」セミナー技術研修
をお願いしました
〔開催日時〕 平成２８年２月中
（参加企業が決定したのち日時を調整させていただきます）
〔診断の流れ〕（全体で２～３時間程度）
➀スタートアップレクチャー
②診断内容の確認
③診断
④ラップアップ
〔診断料〕 無料
〔申込み締め切り〕平成２８年１月２２日（金）
添付資料１(PDF) 添付資料2(Word)
